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石墨坩堝常用坩堝種類(lèi)是什么?

發(fā)布作者:jcadmin      發(fā)布時(shí)間:2023年10月20日

      石墨坩堝,包括坩堝本體,坩堝本體的內(nèi)壁涂覆有防粘內(nèi)層,坩堝本體的上端設(shè)置有豁口,坩堝本體的側(cè)壁上設(shè)置有手柄,坩堝本體的中部方位對(duì)稱(chēng)設(shè)置有兩道凹槽,豁口的截面為三角形。本發(fā)明的有利作用是石墨坩堝內(nèi)壁涂覆有防粘內(nèi)層,金屬熔化過(guò)程中產(chǎn)生的熔渣不會(huì)粘附在管壁上,而且石墨坩堝中部設(shè)置有兩道凹槽,可定位坩堝的出爐夾取方位,防止因夾取方位不妥構(gòu)成坩堝損壞,可延長(zhǎng)坩堝的運(yùn)用壽數(shù)。
  防溢出坩堝,包括坩堝底、坩堝壁、坩堝口,坩堝腰部或底部向外向上延伸構(gòu)成腰托或底托;腰托口或底托口大于坩堝口;腰托壁或底托壁高0.5~1.5cm。將需求熔解的試樣和熔劑參加坩堝內(nèi),高溫熔解樣品,假定熔液有少數(shù)溢出,則會(huì)溢出在腰托或底托中,不會(huì)構(gòu)成樣液的丟掉,一起使熔樣易洗出,保證了實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性。
  碳制坩堝可以防止SiO氣體從直筒部與托盤(pán)部的接壤部分的泄露且防止SiC化的前期加重。碳制坩堝用于對(duì)硅等金屬單晶提拉設(shè)備中運(yùn)用的石英坩堝進(jìn)行堅(jiān)持,并由直筒部與托盤(pán)部切開(kāi)構(gòu)成。在石英坩堝與碳制坩堝之間以掩蓋碳制坩堝的內(nèi)外表的、至少直筒部與托盤(pán)部的接壤部分的方法配備有石墨質(zhì)片材。石墨質(zhì)片材為脹大石墨片。
  復(fù)合坩堝,是一種行進(jìn)電子束熔煉技術(shù)能量利用率的復(fù)合坩堝。復(fù)合坩堝包括坩堝本體,坩堝本體為空腔結(jié)構(gòu),內(nèi)部為用于冷卻液體流通的腔體;坩堝本體的上外表為凹槽結(jié)構(gòu),用于承裝物料;坩堝本體由雙層材料構(gòu)成,其間外層為石墨,內(nèi)層為銅。本發(fā)明行進(jìn)了石墨層的運(yùn)用壽數(shù)至少30%。